Оборудование нового поколения для производства полупроводников нидерландской компании ASML избыточно и слишком дорого для создания даже самых продвинутых микрочипов с новейшим технологическим процессом. Так утверждает крупнейший производитель чипов в мире, тайваньская TSMC. Эта ситуация свидетельствует о сверхсложности дальнейшего прогресса в производстве чипов, что может его замедлить и дать шанс отстающим.
В общем объеме рынка машин для литографии нидерландская ASML занимает примерно две трети, а для современных технологических процессов 5 нм, 3 нм и 2 нм (по которым выпускаются, например, полупроводники для смартфонов) — все 100%.
В середине апреля всё та же ASML представила образцы чипов, выпущенных при помощи нового литографического сканера, работающего по технологии экстремального ультрафиолета с высокой числовой апертурой (High NA EUV). Пока собрана только одна такая машина — на заводе компании. ASML говорит, что эта технология позволит создавать чипы на техпроцессе менее 2 нм. Стоит сразу заметить, что этот техпроцесс еще далек от массового производства: даже мелкосерийное начнется, предположительно, в 2025 году.
Вице-президент по развитию TSMC Keвин Чжан заявил, что для производства полупроводников по новой технологии A16, которое, предположительно, начнется во второй половине 2026 года, хватит и традиционного EUV-оборудования. Кевин Чжан говорит: издержки постоянно растут, причем по всем параметрам. Между тем отдача постепенно убывает. Закон Мура в буквальном смысле уже не работает. Если 3 нм-процесс был запущен в 2022 году (причем в ограниченных количествах), 2 нм пойдет в серию только в конце 2025 года, а скорее в 2026-м. Производители электронной техники начинают приходить к выводу, что эффективность работы систем надо обеспечивать чем-то отличным от постоянного увеличения мощности и уменьшения размера полупроводников.
Замедление и удорожание новейших технологий производства играет на руку тем, кто пытается сейчас догнать. Речь идет в первую очередь о США и о Китае. Но при этом мало кто знает, что ASML, в работе использует технологии рентгеновской оптики, разработанные в Институте физики микроструктур РАН в Нижнем Новгороде. Тем не менее, тестируемый сейчас в Зеленограде, первый отечественный литограф сможет выпускать только 350-нм чипы. Это литография и сейчас пользуется спросом в автопроме, энергетике и связи.
Источник
